台基半导体器件资产限制公司高纯净水控制系统采用了冷凝机组反参透+比调物床+增加光泽剂比调物床方法,产水ܫ电容率18MΩ·CM往上,全不透钢增加光泽剂生产装备,产的水量40m3/h。现厂生产装备运作图片集以下几点:
预除理及反融入机械设备
预办理制作工艺为砂滤器+炭滤器+软化剂器
软化器及重复保护装置
单级反渗透设配法设配,全触控屏自动化管控
后除理为混合着床+镜面抛光混床组
高注射用水热敏电阻率低于18MΩ·CM
台基半导体器件资产限制公司高纯净水控制系统采用了冷凝机组反参透+比调物床+增加光泽剂比调物床方法,产水ܫ电容率18MΩ·CM往上,全不透钢增加光泽剂生产装备,产的水量40m3/h。现厂生产装备运作图片集以下几点:
预除理及反融入机械设备
预办理制作工艺为砂滤器+炭滤器+软化剂器
软化器及重复保护装置
单级反渗透设配法设配,全触控屏自动化管控
后除理为混合着床+镜面抛光混床组
高注射用水热敏电阻率低于18MΩ·CM
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