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电子行业高纯水
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襄樊仪容仪表开关元件厂选取反融于+融合床新工艺制取高超纯水♛，使用于硅片清洁工作。主要的高ꦯ技术招生指标：

      反构建产蓄水量≥6T/H，脱盐率≥𒀰98%，水的利用率ജ率≥75%，产水水的电导率≤5μS/cm。

      混和床铁离子对换体统：产容量≥10～12 M³/Hꦐ，产水内阻率≥17MΩ·CM（2ꩲ5℃）。

      实际上的生孩子进行中，单极反渗透装置工作会更产水电阻率为1.98μS/cm，相混床正离子置换体系单极有水出即达到17.23MΩ·CM，基本要求厂商生孩子制作的⛦污♈水必须要。

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反渗入+交织床艺

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退出式回收装置设备

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预办理及融合床

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反渗透装置性和虚拟主机

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双吸式反覆盖产水导电率1.98μS/cm

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结合床产水阻值率17.23MΩ·cm






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